SKハイニックスは3D DRAMの開発にファウンドリプロセスを利用できると述べた。

SKハイニックスは9日、次世代メモリ3D DRAM半導体の開発においてファウンドリプロセスを活用できると発表しました。前日、同社は利川園区のSupexセンターで開催された2026 SKハイニックス未来フォーラムにおいて、副社長のキム・ギョンフンとソン・ハヨンが3D DRAMの主要技術方向について発表しました。これには、DRAM周辺回路にロジックファウンドリプロセスを採用すること、データバス帯域幅を最大化すること、超短距離伝送などが含まれます。

3D DRAMは、従来の平面に配置されたメモリセルを垂直に積み重ねて集積度を向上させる次世代DRAMです。二人は、この技術を実現するためには設計や発熱の問題に加え、微細相互接続、ボンディング、プロセス統合などのパッケージング分野の課題も解決する必要があると述べました。前工程と後工程のパッケージング、ファウンドリとメモリ技術の境界が近づく中で、既存の分野を超えた共同最適化がより重要になるとしています。ソン・ハヨンは、3D技術がウェーハ工場とパッケージングの技術的境界を変えていると述べ、先進的なパッケージング技術の革新と共に、既存の分野を超えた最適化と新しい協力体制を構築する必要があると提案しました。

同テーマで発表した高麗大学のシン・チャンファン教授は、3D DRAMは単にチップを垂直に積み重ねるだけでなく、メモリとロジックの境界を打破する技術であると述べました。デバイスの微細化が限界に近づく中で、システムとメモリ間のデータ移動による時間と消費電力の増加が避けられないため、3D技術への移行は不可避であり、人工知能を活用して材料、デバイス、パッケージング、アーキテクチャの4つの分野の3D統合設計フレームワークを提案しました。SKハイニックスの社長クォク・ルは、過去のメモリ市場は誰がより速く走るかの直線道路のようだったが、今は常に変化するカーブのようであり、内部能力に加えて外部環境の変化の速度と方向を把握し、柔軟に適応することも重要であると述べました。