黄仁勋は中国が2030年に国産の先進的な光刻技術を実現できると述べました。

黄仁勋は All-In サミットで、中国が 2030 年までに自国の先進的な光刻システムを作り出すことができると判断しました。彼はまた、技術が成熟すれば、中国には大規模生産能力が非常に強く、国産設備が国内のウェハ工場に入るのは時間の問題だと考えています。

この判断は蔡司よりも楽観的です。蔡司半導体の責任者である Frank Rohmund は最近、中国が国産の EUV 光刻機を作り出すには、約 15 年が必要だと述べました。蔡司は ASML の EUV 光学システムの主要なサプライヤーです。司会者が尋ねたのは advanced lithography systems であり、具体的に EUV に限定されていませんでしたが、黄仁勋は回答の中でさらに EUV については言及しませんでした。